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Máquina de recubrimiento de película de liberación
| Especificación | Valores |
| Sustrato | PET, PI, PP, OPP, CPP |
| Anchura del sustrato | 1000 ~ 2000 mm |
| Método de recubrimiento | Recubrimiento de microhuecograbado, Recubrimiento directo de huecograbado, Recubrimiento de beso inverso |
| Velocidad de recubrimiento | 10~120m/min |
| Método de calentamiento | Horno de calentamiento tipo rodillo guía Eléctrico, gasóleo, Calefacción de gas |
Máquina de recubrimiento de película OCA
| Sustrato | PET 22 μm ~ 188 μm |
| Anchura del sustrato | 1000 ~ 2000 mm |
| Método de recubrimiento | Recubrimiento de troquel de ranura Recubrimiento dosificador de rodillos dobles |
| Velocidad de recubrimiento | 10~50m/min |
| Método de calentamiento | Lámpara UV de alto voltaje Lámpara UV de bajo voltaje Lámpara LED UV |
Máquina de recubrimiento de película de difusión
| Especificación | Valores |
| Sustrato | PET 100-300μm |
| Anchura del sustrato | 1400 mm |
| Método de recubrimiento | Recubrimiento de microhuecograbado |
| Velocidad de recubrimiento | 80 m/min |
| Método de calentamiento | Eléctrico, gasóleo, Calefacción de gas |
| Diámetro máx. de desenrollado/rebobinado | Desenrollar máx. Φ800 mm, Rebobinar máx. Φ1000 mm |